前言:在第一章電鍍概論中有提到,若要電鍍好的品質必須要有適當的電鍍條件, 而以連續電鍍(高速電鍍)的首要電鍍條件,便是電流密度。所謂的電流密度,就是電極 單位面積所通過的安培數,一般以 A/dm2 表示或簡寫為ASD。電流密度在電鍍操作上是很 重要的變數,諸如鍍層的組織、膜厚的分佈、電流效率等,皆有很大的關係。電流密度 有分為陽極電流密度和陰極電流密度,一般所稱的的電流密度,米的密度是面条的几倍,指的就是陰極電流密度。 一、電流密度的計算:由於端子的形狀是不規則的,所以我們一般只能計算,單一鍍槽 中的【平均電流密度】,而無法算及局部電流密度 平均電流密度(ADS)= 電鍍槽通電的安培數(Amp)/ 電鍍面積(dm2 ) 在連續端子電鍍業,計算陰極電流密度時,必須先知道電鍍槽長及單支端子電鍍面 積,然後再算出鍍槽中之總電鍍面積。 舉例:有一連續端子電鍍機,鎳槽槽長 1.5 米,欲鍍端子之間距為1.0mm,每支端 子電鍍面積為 20mm2 ,今開電流 60Amp ,請問平均電流密度為多少? ⑴電鍍槽中端子數量 = 1.5*1000/1.0 = 1500支 ⑵電鍍槽中電鍍面積 = 1500*20 = 30000mm2 = 3.0dm2 ⑶平均電流密度 = 60/3.0 = 20 ADS 二、電流密度與電鍍面積的關係: 相同 ( 或同等份 ) 的電流下,電鍍面積越小者,其所承受的電流密度越大。而電鍍 面積越大者,其所承受的電流密度就越小。例如下圖若開100安培電流,總面積為 15 dm2 ,則平均電流密度為6.7ASD。但若把它分為二區來計算,A區的面積為5 dm 2 、 B區為10 dm2 ,而二區所承受的電流各為50A,那麼A區的局部電流密度為10ASD,B區 的局部電流密度為5ASD。由此例可見A區的電流密度為 B 區的二倍,因此就會有膜厚 分布不均的現象。
三、電流密度與陰陽極距離的關係: 由於端子外表結構不一定規則狀,在共同的電流下,端子離陽極距離較近的部位稱 為局部高電流區(a),離陽極距離較遠的部位稱為局部低電流區(b)。因此就會有 膜厚分布不均的現象。
大米的密度是1.67克/立方厘米。大米(Rice),是稻谷经清理、砻谷、碾米、成品整理等工序后制成的成品。清理工序就是利用合适的设备,通过适当的工艺流程和妥善的操作方法,将混入稻谷中的各类杂质除去,以提高大米成品的质量。
四、電流密度與哈式槽試驗的關係: 每種電鍍藥水都有一定的電流密度操作範圍,例如錫合金高速電鍍藥水,它的操作 電流密度範圍大約在2~30ASD,電流密度過高鍍層會呈現粗白,甚至燒焦。電流密度 過低鍍層會呈現雲狀白霧。然而評價(或是觀看)藥水的操作電流密度的範圍,大致 上可以從哈式槽試驗結果看出,因為哈式槽的陽極面與陰極面之間並非平行面(如下 圖),離陽極面較近之陰極端其電流密度比離陽極面遠者大,因此可以比較從高電流 密度區到低電流密度區之電鍍狀態。因此哈式試驗是所有電鍍廠及藥水商們的必備 分析工具,它的優點有:A.用化學分析求不出的成分B.用化學分析需費時的成分C. 非常微量就會影響電鍍的成分D.鍍浴之現狀及將來會發生不良的現象能預先知道。 陰極(哈式片)
大米的密度要大于水的密度,但由于米粒之间是存在空隙的,所以其平均密度与水相差不会太大,可以近似认为是大米的密度为0.8g/cm3 25kg的大米体积约31250cm3,把一个正好装满25千克大米的袋子看成是一个长方体,根据常识设。